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2026-10-05 · Source：Tom's Hardware
Une étude du Centre for Technology & Statecraft plaide pour une interdiction pure et simple d'exporter vers la Chine tout outil DUV à immersion, en écho au MATCH Act proposé par des parlementaires américains.
Trois cent quarante-trois. C'est le nombre d'outils de lithographie à ultraviolets profonds (DUV) à immersion que la Chine a stockés pour la fabrication de puces avancées, selon une nouvelle évaluation du Centre for Technology & Statecraft (CTS) — un inventaire constitué entièrement sans les machines EUV, toujours sous sanction.
Le chiffre qui compte le plus dans le rapport est 270. Parmi les outils stockés, l'analyse du CTS recense 270 scanners à immersion d'ASML jugés capables de produire des processeurs gravés en 7 nm — sans aucun EUV. Avec l'équipement à ultraviolets extrêmes hors de portée des fabs chinoises, le DUV à immersion a été la voie praticable vers les nœuds avancés, et le point central de l'étude est que cette voie est déjà bien approvisionnée.
La prescription du think tank est maximaliste : interdire l'exportation vers la Chine de tous les outils DUV à immersion. Cette position fait délibérément écho au MATCH Act, la proposition défendue par des parlementaires américains ciblant la même classe d'équipements. Think tank et législateurs convergent sur un argument — restreindre le seul EUV laisse la porte du 7 nm ouverte.
La tension que révèle le rapport tient au calendrier. Aucun embargo ne peut reprendre les scanners déjà livrés ; les 343 outils sont en Chine et y resteront. Ce qu'une coupure totale ferait, c'est geler la flotte installée à sa taille actuelle — voilà pourquoi les chiffres du stock donnent à la thèse du groupe en faveur d'une interdiction complète, plutôt que d'un resserrement graduel, toute sa force.
Pour les investisseurs du matériel de lithographie, l'exposition est concentrée : ASML représente l'essentiel de la flotte comptabilisée, et une position alignée sur le MATCH Act mettrait fin, sans détour, aux futures expéditions d'outils à immersion vers la Chine. Pour les acheteurs de puces, le chiffre à retenir est 270 — la mesure du rapport de la capacité 7 nm déjà présente dans le pays.
Mots-clés: ASML · Immersion DUV · 7nm · EUV Export Controls · MATCH Act · China
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